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1200℃ Mini CVD管式爐系統
產品型號：STGC-80-12
爐管尺寸：Φ80×800mm
額定溫度：1200℃
控溫精度：±1℃
應用領域：化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料
1700℃ CVD管式爐系統
產品型號：STGC-60-17
爐管尺寸：Φ80×1000mm
額定溫度：1700℃
STM-8-12-4高通量箱式爐
產品型號：STM-8-12-4
爐膛尺寸：200*300*120mm
應用領域：STM-8-12-4高通量箱式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域的燒結和高溫熱處理。
STM-9-12-8高通量箱式爐
產品型號：STM-9-12-8
應用領域：STM-9-12-8高通量箱式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域的燒結和高溫熱處理。
1200℃（300mm）觸摸屏管式爐
產品型號：STG-60-12
爐膛尺寸：Φ60x800mm
應用領域：應用于高等院校、科研院所、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、納米材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。
1200℃觸摸屏管式爐
爐膛尺寸：Φ60x1000mm
1400℃鐘罩式燒結爐
產品型號：STS-240-14
爐膛容積：240L
額定溫度：1400℃
應用領域：主要應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域
1700℃鐘罩式燒結爐(64L）
產品型號：STS-64-17
爐膛尺寸：400*400*400
1200℃升降式熱處理爐
產品型號：STS-64-12
1700℃鐘罩式燒結爐
產品型號：STS-27-17
爐膛容積：27L
1700℃鐘罩式轉底爐
產品型號：STS-27-17E
真空釬焊管式爐
產品型號：STG-200-12
爐膛尺寸：Φ200x1000mm
應用領域：真空釬焊管式爐應用于高等院校、科研院所、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、納米材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理，或者用于材料的真空釬焊。
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